40 CFR Appendix Table I-4 to Subpart I of Part 98 - Default Emission Factors (1-Uij) for Gas Utilization Rates (Uij) and By-Product Formation Rates (Bijk) for Semiconductor Manufacturing for 300 mm and 450 mm Wafer Size

Table I-4 to Subpart I of Part 98— Default Emission Factors (1-Uij) for Gas Utilization Rates (Uij) and By-Product Formation Rates (Bijk) for Semiconductor Manufacturing for 300 mm and 450 mm Wafer Size

Table I-4 to Subpart I of Part 98—Default Emission Factors (1-Uij) for Gas Utilization Rates (Uij) and By-Product Formation Rates (Bijk) for Semiconductor Manufacturing for 300 mm and 450 mm Wafer Size

Process type/sub-type Process gas i
CF4 C2F6 CHF3 CH2F2 CH3F C3F8 C4F8 NF3 SF6 C4F6 C5F8 C4F8O
Etching/Wafer Cleaning
1-Ui 0.65 0.80 0.37 0.20 0.30 0.30 0.18 0.16 0.30 0.15 0.10 NA
BCF4 NA 0.21 0.076 0.060 0.0291 0.21 0.045 0.044 0.033 0.059 0.11 NA
BC2F6 0.058 NA 0.058 0.043 0.009 0.018 0.027 0.045 0.041 0.062 0.083 NA
BC4F8 0.0046 NA 0.0027 0.054 0.0070 NA NA NA NA 0.0051 NA NA
BC3F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA 0.00012 NA
BCHF3 0.012 NA NA 0.057 0.016 0.012 0.028 0.023 0.0039 0.017 0.0069 NA
BCH2F2 0.005 NA 0.0024 NA 0.0033 NA 0.0021 0.00074 0.000020 0.000030 NA NA
BCH3F 0.0061 NA 0.027 0.0036 NA 0.00073 0.0063 0.0080 0.0082 0.00065 NA NA
Chamber Cleaning
In situ plasma cleaning
1-Ui NA NA NA NA NA NA NA 0.20 NA NA NA NA
BCF4 NA NA NA NA NA NA NA 0.037 NA NA NA NA
BC2F6 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA
BC3F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA
Remote plasma cleaning
1-Ui NA NA NA NA NA 0.063 NA 0.018 NA NA NA NA
BCF4 NA NA NA NA NA NA NA 0.037 NA NA NA NA
BC2F6 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA
BC3F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA
BCHF3 NA NA NA NA NA NA NA 0.000059 NA NA NA NA
BCH2F2 NA NA NA NA NA NA NA 0.00088 NA NA NA NA
BCH3F NA NA NA NA NA NA NA 0.0028 NA NA NA NA
BF2 NA NA NA NA NA NA NA 0.5 NA NA NA NA
In situ thermal cleaning
1-Ui NA NA NA NA NA NA NA 0.28 NA NA NA NA
BCF4 NA NA NA NA NA NA NA 0.010 NA NA NA NA
BC2F6 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA
BC3F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA

Notes: NA = Not applicable; i.e., there are no applicable default emission factor measurements for this gas. This does not necessarily imply that a particular gas is not used in or emitted from a particular process sub-type or process type.

[89 FR 31921, Apr. 25, 2024]